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朗德电子请求一种无掩膜磁通门传感器芯片集成制作办法专利简化制作工艺流程
来源:tg淘金网最新版本    发布时间:2024-10-16 19:49:46

  金融界 2024 年 9 月 20 日音讯,天眼查知识产权信息数据显现,浙江朗德电子科技有限公司请求一项名为“一种无掩膜磁通门传感器芯片集成制作办法“,公开号 CN4.5,请求日期为 2024 年 8 月。

  专利摘要显现,本请求触及 MEMS 集成微制作的技术领域,尤其是触及一种无掩膜磁通门传感器芯片集成制作办法,包含以下过程:获取待处理衬底,并在待处理面获取底层凹槽阵列以及底层导电铜膜,以构成底层线圈;在底层线圈的两头留出导电通孔;选用 3D 打印以获取磁芯放置凹槽,并持续保存导电通孔;选用电化学堆积增材 3D 打印纯铜填满导电通孔以构成铜衔接导体;选用 3D 打印构成顶层线圈的顶层凹槽阵列图形和顶层电极凹槽图形;选用电化学堆积增材 3D 打印纯铜以获取顶层铜膜,顶层铜膜填满顶层凹槽阵列,一起填满顶层电极凹槽构成铜电极,构成完好的无掩膜磁通门传感器芯片。本请求简化了制作工艺流程,缩短了制作周期,降低了芯片本钱。

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